Acero al silicio grabado con láser

Dominio Refinado

≤0.90W/kg 1.92T −25% 99.1%

Proceso de Grabado Láser

Segmentación de Paredes de Dominio

Los pulsos láser generan finas líneas de tensión perpendiculares a la dirección de laminación, segmentando los grandes dominios magnéticos en unidades más pequeñas con menor barrera energética para la inversión del flujo.

Reducción de Pérdidas por Histéresis

Un menor tamaño de dominio reduce directamente la componente de histéresis en la pérdida del núcleo. Un paso de grabado de 5 a 8 mm logra el equilibrio óptimo entre el refinamiento de dominio y la contribución de corrientes de Foucault.

Proceso No Destructivo

A diferencia del grabado mecánico, la aplicación láser no deteriora el recubrimiento aislante base ni introduce macrodefectos, preservando la integridad estructural completa de la laminación.

Compatibilidad con Recubrimientos

El proceso es totalmente compatible con los recubrimientos aislantes C5, C6 y semiorgánicos utilizados en núcleos de transformadores de alta tensión, sin riesgo de delaminación bajo carga térmica cíclica.

Comparativa de Materiales

Casos de Uso Industrial

Descubra la precisión de nuestras soluciones de silicio con grabado láser avanzado, diseñadas para aplicaciones industriales de alto rendimiento que exigen exactitud excepcional, fiabilidad y superior integridad del material en entornos de alta exigencia.
Transformadores de Potencia a Escala de Servicios Públicos
  • Grado: M1 / 23M1
  • Espesor: 0,23–0,27 mm
  • Pérdida: ≤0,90 W/kg @ 1,5T
Redes de Distribución de Energía Renovable
  • B₈₀₀: ≥1,89 T
  • Factor de apilamiento: ≥97,5%
  • Rango de temperatura: -40°C a +120°C
Sistemas de Inducción de Alta Frecuencia
  • Frecuencia: 200–2000 Hz
  • Aislamiento: Recubrimiento C5 / C6
  • Espesor: 0,18–0,23 mm

Exhibición de Productos

Inspección de Calidad

Embalaje de Exportación

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